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本发明公开了一种红外MEMS桥梁柱结构及形成方法,所述结构采用多层薄膜复合结构,包括第一释放保护层、金属介质层以及第二释放保护层;所述第一释放保护层为氧化硅层;所述第二释放保护层为四层结构,从下至上依次为氮氧化硅与氧化硅的混合层、氧化硅层、...该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种红外MEMS桥梁柱结构及形成方法,所述结构采用多层薄膜复合结构,包括第一释放保护层、金属介质层以及第二释放保护层;所述第一释放保护层为氧化硅层;所述第二释放保护层为四层结构,从下至上依次为氮氧化硅与氧化硅的混合层、氧化硅层、...