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本发明公开了一种半导体零件表面清洗装置及其使用方法，涉及半导体加工装置技术领域。包括清洁搭载台，清洁搭载台的一端焊接有超声波清洁结构，超声波清洁结构的一侧固定有控制模块箱，超声波清洁结构顶端的两侧均焊接有延展支撑臂。本发明专利通过多向自调节...
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