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本实用新型公开了一种芯片生产用清洁装置，涉及芯片生产技术领域，针对现有的芯片生产用清洁装置如超声波清洗机在清洗芯片晶圆时，芯片晶圆上的残留水不易快速清除，且芯片晶圆在清洗机内不易分类限位放置，而芯片晶圆与放置装置之间的接触面积较大，也会影响...
该专利属于合肥泽延微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥泽延微电子有限公司授权不得商用。

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