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本发明公开一种沟槽围合孔洞结构及其在锥状微纳结构加工中的应用，所述沟槽围合孔洞结构包含由下往上依次叠层的衬底、第一膜层以及第二膜层；所述第一膜层制备有孔洞以及环形沟槽；所述环形沟槽围合孔洞；所述孔洞的深度等于所述第一膜层的厚度；所述沟槽的深...
该专利属于中山大学所有，仅供学习研究参考，未经过中山大学授权不得商用。

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