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本发明属于电子封装材料技术领域,公开一种绝缘胶膜及其制备方法。该绝缘胶膜材料由三层结构组成,绝缘胶膜从底部到顶部依次由支撑膜、介质膜和覆盖膜组成,介质膜置于中间形成三明治结构,介质膜包括上、中、下三层介质层结构,上、下两层介质层材料由环氧树...该专利属于中国科学院深圳先进技术研究院所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院深圳先进技术研究院授权不得商用。
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本发明属于电子封装材料技术领域,公开一种绝缘胶膜及其制备方法。该绝缘胶膜材料由三层结构组成,绝缘胶膜从底部到顶部依次由支撑膜、介质膜和覆盖膜组成,介质膜置于中间形成三明治结构,介质膜包括上、中、下三层介质层结构,上、下两层介质层材料由环氧树...