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在通过使频率被调制的半导体激光透过减压状态的被测定气体来得到光吸收强度的２次微分谱来分析被测定气体中的微量杂质的气体的光谱分析装置中，设置根据半导体激光器（１１）的特性控制激光的调制振幅用的调制振幅运算装置（１）、对由测定得到的２次微分谱中...
该专利属于日本酸素株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日本酸素株式会社授权不得商用。

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