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一种含有反向导电槽栅结构的超结MOSFET制造技术
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文档序号:25993581
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本发明提供了一种超结MOSFET(Metal‑Oxide‑Semiconductor Field Effect Transistor,金属‑氧化物‑半导体场效应晶体管)器件,其耐压层中第二导电类型的半导体区采用非均匀掺杂以提高该区电阻,并且...
该专利属于四川大学所有,仅供学习研究参考,未经过四川大学授权不得商用。
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