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本发明的课题在于，提供一种所形成的图案的LER及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的另一课题在于，提供一种使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。并且，本发明的...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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