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蚀刻方法以及等离子处理装置制造方法及图纸
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文档序号:25923037
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能在抑制、减少过渡金属膜的表面粗糙度的同时高精度地进行蚀刻。对形成于样品的含过渡金属元素的过渡金属膜通过如下工序来进行蚀刻:第1工序,将样品的温度保持在100℃以下,并在过渡金属膜的表面各向同性地生成过渡金属氧化物层;第2工序,对过渡金属氧...
该专利属于株式会社日立高新技术所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社日立高新技术授权不得商用。
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