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本发明涉及一种在扫描电子显微镜中，注入微量氧气，在氧环境中对非导电材料直接进行观察和分析的方法及系统。特征在于：在扫描样品前，将微量活性氧气注入样品室内，以减小和消除非导电样品荷电现象。注入氧气前先选择真空模式，氧气通过减压阀减压，用真空计...
该专利属于北京工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京工业大学授权不得商用。

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