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用于掩模版增强技术(RET)的方法包括：将目标晶片图案或所预测晶片图案表示为作为函数样本数组捕获的平滑函数，所述函数样本数组是函数值的数组。提供连续色调掩模(CTM)，其中所述CTM用于产生所预测晶片图案。用于RET的方法还包括：输入目标晶...
该专利属于D2S公司所有，仅供学习研究参考，未经过D2S公司授权不得商用。

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