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本发明提供基板处理装置、反应管以及半导体装置的制造方法，缩小配置于基板处理区域的基板间的处理结果的差异。该反应管在内部构成对基板进行处理的处理室，被设于周围的加热部加热，而且具备：气体导入部，其设于上述反应管的下端侧且导入处理气体；第一供给...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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