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一种压电薄膜体及其制备方法、空腔型器件及其制备方法技术
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文档序号:25840743
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本申请实施例提供一种压电薄膜体及其制备方法、空腔型器件及其制备的方法,压电薄膜体,包括依次层叠的衬底层、隔离层和压电薄膜层;衬底层包括带有空腔的衬底基体;空腔内由填充层完全填充;填充层与隔离层接触;其中,填充层与隔离层的材料相同,并且,填充...
该专利属于济南晶正电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过济南晶正电子科技有限公司授权不得商用。
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