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本发明公开了一种阻隔光阻放气污染的装置，包括：一气体挡板，设于真空腔室内，并位于动态气体锁和晶圆之间，所述气体挡板上设有透光缝隙，所述透光缝隙的大小至少保证穿过所述动态气体锁的光线全部得到通过，并投射到涂覆光阻的所述晶圆的扫描区域上形成像场...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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