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本发明提供掩模缺陷修正装置和掩模缺陷修正方法，不用使掩模在掩模缺陷修正装置与检查装置之间一边暴露在大气中一边移动，便能够进行精度高的缺陷修正。掩模缺陷修正装置使得一边向掩模的缺陷供给气体，一边照射由补正部补正后的照射量的带电粒子束，从而形成...
该专利属于日本株式会社日立高新技术科学所有，仅供学习研究参考，未经过日本株式会社日立高新技术科学授权不得商用。

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