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基于硅纳米孔柱阵列的表面增强拉曼散射活性基底的制备方法技术
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下载基于硅纳米孔柱阵列的表面增强拉曼散射活性基底的制备方法的技术资料
文档序号:2576720
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本发明公开了一种基于硅纳米孔柱阵列的表面增强拉曼散射活性基底的制备方法,它是以水热方法制备的硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)为衬底材料,利用还原法将金属盐溶液中的金属离子还原成单质并以纳米颗粒的形式在Si-NPA表面均匀沉积成各种结构后得到活...
该专利属于郑州大学所有,仅供学习研究参考,未经过郑州大学授权不得商用。
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