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本实用新型涉及一种掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构。掩膜版包括掩膜本体。掩膜本体具有相对设置的入光面和出光面，形成多个间隔设置的遮光部。至少一个遮光部具有设置于出光面的对位部。本申请提供的掩膜版可以在蒸镀工艺中，实现与待蒸镀像素基板的准确...
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