掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构。掩膜版包括掩膜本体。掩膜本体具有相对设置的入光面和出光面，形成多个间隔设置的遮光部。至少一个遮光部具有设置于出光面的对位部。本申请提供的掩膜版可以在蒸镀工艺中，实现与待蒸镀像素基板的准确对位，并且使得掩膜版难以移动，遮光部可以更准确的实现材料的蒸镀。本申请提供的掩膜版还可以避免由于受到热辐射、重力、高斯强度不均一等情况造成的蒸镀像素偏移的问题。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构
本申请涉及显示
，特别是涉及一种掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构。
技术介绍
在有机发光显示器件的制备过程中，有机材料通过高温蒸镀淀积在位于蒸发源上方的基板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，在基板下方需使用掩膜版。在蒸镀工艺中，由于受到热辐射、重力、高斯强度不均一等情况，容易造成掩膜版相对像素偏移，造成蒸镀膜层偏移的情况。
技术实现思路
基于此，有必要针对在蒸镀工艺中，由于受到热辐射、重力、高斯强度不均一等情况，容易造成掩膜版相对像素偏移的问题，提供一种掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构。一种掩膜版，包括：掩膜本体，所述掩膜本体具有相对设置的入光面和出光面，所述掩膜本体还具有间隔设置的多个遮光部；至少一个所述遮光部具有设置于所述出光面的第一对位部。在一个实施例中，所述第一对位部为第一延伸结构；所述第一延伸结构包括：第一接触端，与所述出光面所在的表面固定接触；以及第一自由端，远离所述出光面，并且所述第一延伸结构沿着与所述出光面垂直本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：/n掩膜本体(10)，所述掩膜本体(10)具有相对设置的入光面(101)和出光面(102)，所述掩膜本体(10)还具有间隔设置的多个遮光部(104)；/n至少一个所述遮光部(104)具有设置于所述出光面(102)的第一对位部(20)。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：
掩膜本体(10)，所述掩膜本体(10)具有相对设置的入光面(101)和出光面(102)，所述掩膜本体(10)还具有间隔设置的多个遮光部(104)；
至少一个所述遮光部(104)具有设置于所述出光面(102)的第一对位部(20)。


2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一对位部(20)为第一延伸结构(21)；所述第一延伸结构(21)包括：
第一接触端(211)，与所述出光面(102)所在的表面固定接触；以及
第一自由端(212)，远离所述出光面(102)，并且所述第一延伸结构(21)沿着与所述出光面(102)垂直的方向延伸。


3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第一延伸结构(21)包括：第一接触面(201)，用于增加所述第一延伸结构(21)的固定连接能力。


4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一对位部(20)为第一凹槽(22)；所述第一凹槽(22)的开口位于所述出光面(102)。


5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述第一对位部(20)还包括：
引导体(222)，设置于所述第一凹槽(22)的内槽壁。


6.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述第一对位部(20)...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐国华，王建强，吴蕴泽，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34