温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及半导体装置及半导体装置的制造方法。目的在于提供一种能够抑制半导体装置的制造成本的技术。绝缘膜在单元区域及末端区域的至少一者具有第1开口部，并且在界面区域具有与第1开口部相比开口率低的第2开口部。半导体装置具有：第2导电型的第1杂质...
该专利属于三菱电机株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三菱电机株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。