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本发明提供了一种光致抗蚀剂组合物及形成光刻图案的方法。上述光致抗蚀剂组合物包括：(A)在酸的作用下碱溶性发生变化的树脂，(B)光致产酸剂；光致产酸剂选自具有通式(I)或通式(II)所示结构的化合物中的一种或几种。相比于现有的化学增幅型光致抗...该专利属于常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司授权不得商用。