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本发明提供了一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置及方法，所述清洁装置包括清洁盘、承片台、清洁液喷洒机构、调节旋转机构；所述清洁盘设置在所述承片台上，所述清洁盘的正面与所述承片台接触，所述清洁盘的背面朝上；所述清洁液喷洒机构设置在所述承片台外部，所述...
该专利属于沈阳芯源微电子设备股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳芯源微电子设备股份有限公司授权不得商用。

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