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本发明公开了一种ICP等离子体刻蚀用清洗机构，包括上料箱，所述上料箱的内腔设置有送料机构，所述上料箱左侧的内腔设置有导料机构一，所述送料机构包括开设在上料箱内腔前侧和后侧的两个导向滑槽。本发明通过送料机构和导料机构一的配合使用，将上料箱内腔...
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