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实施方式提供一种能够抑制经由衬底表面的漏电流产生的半导体装置及其制造方法。根据一实施方式，半导体装置具备第1芯片，所述第1芯片具有：第1衬底；第1晶体管，设置在所述第1衬底上；以及第1焊垫，设置在所述第1晶体管的上方，且与所述第1晶体管电连...
该专利属于东芝存储器株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东芝存储器株式会社授权不得商用。

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