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本发明公开一种半导体设备腔体内铝基材多孔分气装置超洁净清洗工艺，属于半导体设备部件洁净清洗技术领域；包括使用圆盘式砂纸气动打磨机对待清洗装置部件进行初步打磨处理；将装置部件置于混酸溶液中进行去膜处理；装置部件使用高纯水进行漂洗；采用高压水射...
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