温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本公开提供了一种晶圆承载装置及曝光设备，属于光刻设备技术领域。该晶圆承载装置包括反射镜块、晶圆台和负压组件；其中，反射镜块具有承载表面和清洁通道；所述承载表面设置有清洁开口，且所述清洁开口与所述清洁通道连通；晶圆台设于所述承载表面，且设有支...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。