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本发明提供了一种图案化量子点薄膜的制备方法，包括：提供聚硅氧烷衍生物与固化剂的混合胶体溶液，将所述胶体溶液沉积在原始模板上，经固化反应制备压印模板，其中，所述压印模板在一表面形成凸起印章，且所述凸起印章以外的部分形成的图案与待制备的量子点薄...
该专利属于TCL集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过TCL集团股份有限公司授权不得商用。

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