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本发明公开了一种半导体装置及其形成方法。半导体装置包括一基底、多个第一图案以及多个第二图案。多个第一图案与多个第二图案系设置在基底上，第一图案与第二图案相互平行且交替地沿着第一方向设置。第一图案与第二图案分别具有相对的第一侧与第二侧，各第一...
该专利属于福建省晋华集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建省晋华集成电路有限公司授权不得商用。

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