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本申请提供一种纳米图案的制备方法、纳米压印基板、显示基板，以有效地解决由于段差的存在而导致的压印残胶厚度不均或者脱离的问题。该制备方法包括：S1：提供一基底，基底沿第一方向包括保护区域和非保护区域；S2：在基底上形成保护层，保护层位于保护区...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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