温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本公开提供一种掩膜版、制备半导体器件的方法和半导体器件，所述掩膜版包括掩膜基板，掩膜基板沿其第一预定方向间隔设置有用以形成目标图形的多个第一区域以及环绕所述多个第一区域设置的第二区域，第一区域和第二区域中的一者为遮光区，所述第一区域和第二区...
该专利属于厦门通富微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门通富微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。