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光不稳定的巴比妥酸酯化合物制造技术
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文档序号:25530993
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本公开提供了一种用于引发聚合的氧化还原引发剂体系,所述氧化还原引发剂体系包含氧化剂、来源于巴比妥酸酯的光不稳定还原剂和参与氧化还原循环的过渡金属络合物。在暴露于光化辐射诸如UV时,光不稳定化合物光解,从而释放所述还原剂并引发氧化还原引发的聚...
该专利属于3M创新有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过3M创新有限公司授权不得商用。
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