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本申请提供一种阵列基板及其制备方法，所述阵列基板包括：层叠设置的衬底、缓冲层、栅极金属层、栅极绝缘层、有源层、层间介质层，源漏极层，其中，有源层图案化形成沟道区，源漏极层包括层叠设置的第一源漏极层和第二源漏极层，第一源漏极层在与有源层接触的...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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