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本发明公开了一种在等离子体处理系统中确定衬底温度的方法。该方法包括将衬底放置在衬底支撑结构上，其中，衬底支撑包括卡盘。该方法还包括为衬底创建温度校准曲线，通过在第一等温状态期间用电磁测量装置至少测量第一衬底温度以及用物理测量装置测量第一卡盘...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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