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本发明设计的一种晶片涂层金属氧化薄膜制备方法，通过干氧氧化的方式在硅衬底上形成一层致密的氧化层；再对形成的氧化层表面进行清洁和处理，为金属镀层做准备；最后在致密的氧化层表面通过蒸镀的方式镀金属氧化薄膜；解决了传统方式在硅衬底上直接做金属薄膜...
该专利属于苏州美法光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州美法光电科技有限公司授权不得商用。

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