下载半导体装置及其制造方法的技术资料

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本发明的目的在于提供一种能够抑制阈值电压降低的半导体装置及其制造方法。一种半导体装置,其设有极性相同的第一MOS晶体管(HVNMOS)和第二MOS晶体管(LVNMOS),第一MOS晶体管包括多晶硅的栅极电极,第一MOS晶体管的栅极电极具有以...
该专利属于合肥晶合集成电路有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过合肥晶合集成电路有限公司授权不得商用。

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