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本发明的课题在于提供一种即使在应用于利用EUV曝光进行的抗蚀剂步骤时也具有优异的缺陷抑制性能的药液。并且，本发明的另一课题在于提供一种药液的制造方法。本发明的药液含有：有机溶剂；及含有金属原子的含金属粒子，所述药液中，含金属粒子中粒径为0....
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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