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本发明公开了一种有机硅水解HCl气体中微量硅氧烷洗脱装置及方法，装置包括吸收塔、吸收剂循环泵和后置除雾器。方法步骤如下：1)含硅氧烷的HCl气体从吸收塔底部进入，与吸收剂逆流接触，吸收剂包含至少一种高环硅氧烷和/或至少一种线型硅氧烷；2)H...
该专利属于唐山三友硅业有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过唐山三友硅业有限责任公司授权不得商用。

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