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本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方案，具有在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，所述抗蚀剂组合物含有具有以通式(a10‑1)表示的结构单元、包...
该专利属于东京应化工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京应化工业株式会社授权不得商用。

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