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本实用新型涉及一种构成压电传感器压电片的基片，其包括基片，基片为金属基片，该基片与压电晶片相粘合的部位上均布有照相腐蚀孔，照相腐蚀孔的加工精度≥０．１ｍｍ，照相腐蚀孔的面积Ｓ≤１０（ｍｍ）↑［２］。本实用新型解决了背景技术中刚性差、抗横向干...
该专利属于朱军所有，仅供学习研究参考，未经过朱军授权不得商用。

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