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本申请公开了一种取晶辅助机构，该取晶辅助机构包括底座；底盘，底盘与底座构成真空吸附腔的至少一部分，底盘具有若干连通真空吸附腔和外界的气孔，用于放置承载有晶片的蓝膜。通过采用增加真空吸附腔的方式，可以减小待取晶片与蓝膜之间的黏着力，从而使得从...
该专利属于深圳瑞波光电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳瑞波光电子有限公司授权不得商用。

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