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本发明提供一种光刻胶剥离液及剥离装置；所述光刻胶剥离液包括化合物A，通过采用化合物A，所述光刻胶剥离液能溶解基板上的光刻胶同时并保障其能被水洗除去；所述剥离装置包括依次对基板进行一次剥离、二次剥离及水洗的剥离单元、过渡单元及水洗单元，其中所...
该专利属于TCL华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过TCL华星光电技术有限公司授权不得商用。

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