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本发明是关于一种缺陷检测方法及设备，用于对完成刻划工艺的待测基板进行缺陷检测。所述待测基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的背电极层，所述方法包括：采集第一光源透过所述待测基板形成的第一图像数据；根据所述第一图像数据反映的对应于各个刻划位置...
该专利属于北京铂阳顶荣光伏科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京铂阳顶荣光伏科技有限公司授权不得商用。

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