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提供一种竖直石墨烯的生长装置,该装置包括反应腔室、支架和上、下电极板,其中反应腔室用于进行气相沉积反应,反应腔室包括进气端和封闭端,封闭端设有开设至少两个通孔的封闭部;支架包括相对的两个侧板和连接两个侧板的底座,两个侧板上设有承载组件,承载...该专利属于北京石墨烯研究院;北京大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京石墨烯研究院;北京大学授权不得商用。
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提供一种竖直石墨烯的生长装置,该装置包括反应腔室、支架和上、下电极板,其中反应腔室用于进行气相沉积反应,反应腔室包括进气端和封闭端,封闭端设有开设至少两个通孔的封闭部;支架包括相对的两个侧板和连接两个侧板的底座,两个侧板上设有承载组件,承载...