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基片台及用等离子体原位清洗的方法技术
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文档序号:24989530
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本发明提供了一种基片台,所述基片台包含一个轴对称的圆柱形真空腔体,在所述真空腔体内的中央处,放置一个带金属丝的金属底座。在进行真空腔内壁的表面清洁过程中,微波馈入真空腔后,金属丝靠近真空腔壁端的针刺状结构由于微波电场容易在金属尖端处产生“尖...
该专利属于上海征世科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海征世科技有限公司授权不得商用。
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