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本发明涉及一种用于以高选择性去除二氧化硅的干式清洁设备和方法，并且在反应过程中，根据预定的时间周期来提供RF电源、含氟气体和含氢气体中的至少一个的开和关，因此将至少一部分二氧化硅转变成六氟硅酸铵((NH...
该专利属于无尽电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无尽电子有限公司授权不得商用。

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