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提供用于处理低k介电材料的表面处理工艺。一个示例性实施可包括用于处理工件的方法。工件可包括含硅和碳的膜材料。方法可包括用表面处理工艺处理工件。表面处理工艺可包括在第一腔室中生成一种或多种核素；将一种或多种烃分子与核素混合以形成包括一种或多种...该专利属于马特森技术有限公司;北京屹唐半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过马特森技术有限公司;北京屹唐半导体科技有限公司授权不得商用。