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提供了一种用于在衬底上的堆叠件中形成楼梯踏步式结构的方法。所述方法包括至少一个楼梯踏步循环。每个楼梯踏步循环包括：修整所述掩模并且蚀刻所述堆叠件。在多个循环中提供蚀刻所述堆叠件，其中每个循环包括：刻蚀SiO...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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