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提供了用于集成电路芯片流片的GDS图层越界检查方法。所公开的用于集成电路芯片流片的GDS图层越界检查方法包括：将GDS文件提供给PV工具；操作PV工具从GDS文件中提取多个图层；从所述多个图层中选择一个图层作为边界层；操作PV工具将所述多个...
该专利属于上海同温层智能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海同温层智能科技有限公司授权不得商用。

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