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本发明提供了一种连续真空镀膜装置，属于真空镀膜技术领域，包括镀膜室以及设置在所述镀膜室内底部的蒸发室，所述蒸发室内部设置有加热板，所述镀膜室上部通过支撑筒连接有驱动箱体，所述支撑筒内部设置有镀膜通道，所述驱动箱体上部开设有取放口，所述取放口...
该专利属于胡均松所有，仅供学习研究参考，未经过胡均松授权不得商用。

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