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本发明公开了一种硅光学薄膜的制备方法，采用单晶硅作为镀膜材料，采用物理气相沉积法制备的硅光学薄膜；本发明制备的硅光学薄膜能够大幅提高光学薄膜的折射率，可实现较少层数的光学薄膜替代现有较多层的光学薄膜，大幅减小光学器件的厚度，进而有效降低红外...
该专利属于苏州市唯嘉光学有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州市唯嘉光学有限公司授权不得商用。

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