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本发明公开了一种晶圆缺陷监控方法,其用于集成电路制造生产线线上晶圆缺陷监控,包括:通过缺陷扫描机台对晶圆进行扫描获取第一最小重复完整单元和第二最小重复完整单元的灰阶信号;第一预设时段内第一最小重复完整单元预设位置的灰阶信号;将第一最小重复完...该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种晶圆缺陷监控方法,其用于集成电路制造生产线线上晶圆缺陷监控,包括:通过缺陷扫描机台对晶圆进行扫描获取第一最小重复完整单元和第二最小重复完整单元的灰阶信号;第一预设时段内第一最小重复完整单元预设位置的灰阶信号;将第一最小重复完...